Nikon Eclipse LV100 D – исследовательский микроскоп промышленного назначения.
Оптическая схема приборов предусматривает оптимальную интеграцию различных камер, производства Nikon.
Специально для приборов LV100 на основе стекла “eco-glass” Nikon разработал новейшие модели светосильных объективов серии CFI60:
Модель |
Увеличение |
Числовая апертура |
Рабочий отрезок, мм |
CFI Plan Epi |
2,5× |
0,075 |
8,8 |
CFI LU Plan Fluor Epi |
5× |
0,15 |
23,5 |
10× |
0,30 |
17,5 |
|
20× |
0,45 |
4,5 |
|
50× |
0,80 |
1,0 |
|
100× |
0,90 |
1,0 |
|
CFI LU Plan Epi ELWD |
20× |
0,40 |
13,0 |
50× |
0,55 |
10,1 |
|
100× |
0,80 |
3,5 |
|
CFI L Plan Epi SLWD |
20× |
0,35 |
24,0 |
50× |
0,45 |
17,0 |
|
100× |
0,70 |
6,5 |
|
CFI LU Plan Apo EPI |
100× |
0,95 |
0,4 |
150× |
0,95 |
0,3 |
|
CFI L Plan Apo EPI WI |
150× |
1,25 |
0,25 |
CFI LU Plan Fluor BD |
5× |
0,15 |
18,0 |
10× |
0,30 |
15,0 |
|
20× |
0,45 |
4,5 |
|
50× |
0,80 |
1,0 |
|
100× |
0,90 |
1,0 |
|
CFI LU Plan Fluor BD ELWD |
20× |
0,40 |
13,0 |
50× |
0,55 |
9,8 |
|
100× |
0,80 |
3,5 |
|
CFI LU Plan Apo BD |
100× |
0,90 |
0,51 |
150× |
0,90 |
0,4 |
Также разработана новая серия объективов с коррекцией покровного стекла, что также позволяет их использовать в полупроводниковой промышленности для контроля жидкокристаллических панелей:
Модель |
Увеличение |
Числовая апертура |
Рабочий отрезок, мм |
Толщина корректируемого стекла, мм |
CFI L Plan EPI CR |
20× |
0,45 |
10,9÷10,0 |
0÷1,2 мм |
CFI L Plan EPI CR |
50× |
0,7 |
3,9÷3,0 |
0÷1,2 мм |
CFI L Plan EPI CRA |
100× |
0,85 |
1,2÷0,85 |
0÷0,7 мм |
CFI L Plan EPI CRB |
100× |
0,85 |
1,3÷0,95 |
0,6÷1,3 мм |
Компьютерное моделирование позволило разработать станину микроскопов с увеличенной жесткостью и увеличенной термо- и вибростабильностью. По сравнению с предыдущими моделями уровень подвижности станины уменьшился более чем в 2 раза.